(1) 2nm~のビーム径を持つ高分解能な電子線描画装置の販売&提供と通し、お客様のNEMS&MEMSへの取り組みに側面から貢献しております。
(2) EB描画受託加工サービスを通して、お客様から頂いたウェハーに頂いたパターンデザインに従い、EB描画をするEB受託加工サービスのご提供し、お客様のNEMS&MEMSへの取り組みに側面から貢献しております。
※全てパネル及びカタログ展示
XYZステージ方 超高精度ポイントビーム型EB描画装置
CABL-UH(130keV)シリーズ
世界最高クラスの加速電圧 130keV、ビーム径1.6nm、細線描画能力<5nm
CABL-9000C (50keV) シリーズ
高分解能、ビーム径2nm、細線描画能力<10nm保証
●両機共通の特徴
・自己環境制御(パーマロイボックス&恒温装置)
・抜群の繋ぎ&重ね合わせ精度、抜群の安定性
・用途に合せて豊富な描画方法(ラスター、Vector R-theta、Spot、FSM描画法、他)
・ユーザーフレンドリー:
マルチユーザー仕様、レシピ化、DXT,GDSIICAD変換、CD-SEM、PEC、マウスクリックで
ステージ移動、他)
EB描画受託加工サービス
頂いたウェハーに頂いたパターンデザインに従いEB描画をするEB受託加工サービスのご提供。限られたご予算で、描画のプロが短時間で仕上げます。
超高精度ポイントビーム型EBマスタリングシステム CEBR-3000シリーズ
超高精度フリクションドライブ採用、次世代HDDパターンドメディア対応、全面描画対応可能な数少ない選択肢。
EB面一括露光装置CSELシリーズ
開発中の次世代面露光装置。
大面積、高分解能露光を同時に実現。
Sinichi Kato is a freelance writer and editor specializing in MEMS, semiconductor, display, and energy-related technologies. He also conducts various projects in research, event planning and consulting on a broader range of topics such as electronics, city planning, lifestyle, and culture.
From 2008 to 2010, Mr. Kato worked as a staff writer and editor for the Nikkei Microdevices magazine and the Tech-On! online technical media at Nikkei Business Publications. Before joining Nikkei Business, he worked for Electronic Journal, Inc. as a staff writer and editor for Electronic Journal, a publication dedicated to electronics, since 2002. Mr. Kato graduated from Chuo University in Tokyo in 1999 with a BA degree in literature.
加藤 伸一 略歴:
MEMSや半導体、ディスプレイやエネルギー関連デバイスなどの専門誌における経験をもとに、エレクトロニクスから街づくり、衣食を中心とした生活、文化関連まで、幅広い分野で活動するジャーナリスト。産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究グループ広報担当。
2002年~2008年 株式会社電子ジャーナル(Electronic Journal, Inc.)にて、エレクトロニクス専門誌「Electronic Journal」の記者。
2008年~2010年 株式会社日経ビーピー(Nikkei Business Publications, Inc.)にて、電子でバイス専門誌「Nikkei Microdevices」や、技術系webサイト「Tech-On !」の記者。
2010年~ フリーランスのジャーナリストとして、各種調査、イベント企画、コンサルティングなどの領域で活動中。