お客様のニーズ・ご予算に応じた、最適なMEMS開発ソリューションをご提案。
試作から量産まで、“一貫したMEMSファウンドリサービス“をご提供します!
試作~少量生産対応
・永年培った受託加工のノウハウを活かし、お客様の要望にお応えする最適な加工方法を提供します。
量産対応
・Pure Play MEMSファウンドリ
Silex Microsystems社との提携により、様々なMEMSデバイスに対応します。
・φ6”、φ8”MEMS専用ラインを保有しています。
MEMS開発ツール
・MEMSデバイス製造に関係するMEMS開発ツールを提案します。
試作~少量生産対応
・圧電素子向けの高品質なPZT膜を提供
パルスレーザー堆積法(PLD法)にて、圧電定数d31~130pm/V、d33~180pm/Vを実現。φ8”基板へも対応可能です。
・半導体前工程の設備を保有
成膜加工からフォトリソ・エッチング、CMPまで一貫工程で受託対応します。
量産対応
・Silex Microsystems社との提携
MEMSファウンドリ世界No.1の実績・経験から、最適な加工プロセスを提案します。
・独自技術のご紹介
Sil-Via(オールSi貫通電極)、Met-Cap(中空構造のCu-TSV)
MEMS開発ツール
・ウェハ接合装置”AMLウェハボンダ―”
アラインメントから接合までを同一チャンバーで処理可能。
±1μmの位置合わせ精度を実現します。
・パルスレーザー堆積法(PLD法)成膜装置”PiezoFlare 1200”
φ4”、φ6”、φ8”基板への成膜が可能。高品質なPZT膜の成膜が可能です。
独自のDroplet Trapモジュールを採用することにより、100Vの破壊電圧を実現します。(膜厚1μm時)
・樹脂製多目的スピンコーター“POLOS”
コート、エッチング、現像、乾燥と様々な加工ができます。
・両面露光マスクアライナー”OAI Model 800”
MEMS開発に最適なコンパクト設計の露光装置です。
Sinichi Kato is a freelance writer and editor specializing in MEMS, semiconductor, display, and energy-related technologies. He also conducts various projects in research, event planning and consulting on a broader range of topics such as electronics, city planning, lifestyle, and culture.
From 2008 to 2010, Mr. Kato worked as a staff writer and editor for the Nikkei Microdevices magazine and the Tech-On! online technical media at Nikkei Business Publications. Before joining Nikkei Business, he worked for Electronic Journal, Inc. as a staff writer and editor for Electronic Journal, a publication dedicated to electronics, since 2002. Mr. Kato graduated from Chuo University in Tokyo in 1999 with a BA degree in literature.
加藤 伸一 略歴:
MEMSや半導体、ディスプレイやエネルギー関連デバイスなどの専門誌における経験をもとに、エレクトロニクスから街づくり、衣食を中心とした生活、文化関連まで、幅広い分野で活動するジャーナリスト。産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究グループ広報担当。
2002年~2008年 株式会社電子ジャーナル(Electronic Journal, Inc.)にて、エレクトロニクス専門誌「Electronic Journal」の記者。
2008年~2010年 株式会社日経ビーピー(Nikkei Business Publications, Inc.)にて、電子でバイス専門誌「Nikkei Microdevices」や、技術系webサイト「Tech-On !」の記者。
2010年~ フリーランスのジャーナリストとして、各種調査、イベント企画、コンサルティングなどの領域で活動中。